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| CEA与Crolles2联合开发45nm和32nm CMOS纳电子技术 | |||||
作者：佚名 文章来源：不详 点击数： 更新时间：2008-01-06  |
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--这项研究项目由CEA-Leti（CEA电子信息技术实验室）在一个新的300mm制造厂完成,这个被称为Nanotec 300（纳米技术300）的新厂区位于格靳诺布尔市,2004年4月22日举行了落成典礼。新厂区包括1000平方米的洁净室和在300mm圆晶片上制造、晶质鉴定和测量电子器件如晶体管的各种设备。研究活动涵盖四个领域：高级图形形成、前端材料和工序、高级器件、后端材料和工序。这项研究活动将由CEA与Crolles2联盟的三个作伙伴以及其现有的研究伙伴联合进行,包括比利时Leuven IMEC和美国德州奥斯丁Dan Noble中心。 --这项协议是CEA-Leti与意法半导体（ST）在格靳诺布尔地区达成的就200毫米圆晶片CMOS研究计划的继续。作为这项长期合作的一部分,两个实验室的研究员及两个制造厂的圆晶片可以永久互换,标准的CMOS工序在Crolles完成,而较高级的技术在附近的CEA-Leti制造厂进行,从而优化了整体研究的投资。新的协议将采用与此相似的做法。 Nanotec 300项目代表了微电子技术领域的一项重大的研究活动,得到了总计3亿欧元的支持资金,融资单位包括Crolles2联盟、法国政府和当地政府（隆河阿尔卑斯山区议会、Isere省众议院、格靳诺布尔市区自治会和市政厅）。 |
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