![]() |
|
||||||||||||||
| | 网站首页 | 文章中心 | 下载中心 | 图片中心 | 论坛 | 淘宝网店 | | ||
|
||
|
|||||
| 晶圆研磨系统 | |||||
作者:佚名 文章来源:不详 点击数: 更新时间:2008-01-08 ![]() |
|||||
|
3770系列凝聚颗粒计数器有四种可选模式,系统主要包括以下特点:提供USB接口及以太网接口;支持多色彩显示;允许Internet数据载入;配备一套除水系统。最高精度模式可检测到的颗粒直径小于2.5纳米,在其余的几种模式下,分别可检测到直径为4纳米和10纳米的颗粒。气溶胶的流动速度为50-1000 cm3/min。 TSI Inc. www.particle.tsi.com.
|
|||||
| 文章录入:admin 责任编辑:admin | |||||
| 【发表评论】【加入收藏】【告诉好友】【打印此文】【关闭窗口】 | |||||
| 最新热点 | 最新推荐 | 相关文章 | ||
| SEZ揭开高效单晶圆清洗设备神 SEZ 最新的GALILEO基板蚀刻设 威克斯公司的晶圆输送载体 SILTRONIC获得SOITEC的SMART SEMICON China2004 晶圆工艺 单晶圆清洗技术 300mm大客户证实使用罗门哈斯 单晶圆表面处理设备-Semitoo 铜研磨液 EV Group与Datacon合作开发先 |
| 网友评论:(只显示最新10条。评论内容只代表网友观点,与本站立场无关!) |
| | 设为首页 | 加入收藏 | 联系站长 | 友情链接 | 版权申明 | 网站公告 | 管理登录 | | |||
|